80年代下马的最典型的就是光刻机项目。

       二十世纪60年代我国开始布局研发光刻机，那时，荷兰光刻机制造巨头 ASML还没有成立。二十世纪七十年代，中国科学院开始研究计算机辅助光掩模工艺。一九七二年武汉三厂编拟工业生产指南“光刻掩版制造”。

       1977年，中国科学院化学研究所光致抗蚀剂研究小组编制《光刻胶》作为行业资料。清华1980年研制成功的第四代光刻机，精度达到3微米，接近国际主流光刻机水平。

       但是，80年代后光刻机项目下马，从此我国芯片产业就落下帷幕，到2020年，中国的手机芯片被扼住了咽喉。

大飞机项目，运10客机被迫下马。